专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻用清洗剂或冲洗剂-CN200710088926.0无效
  • 堀口明;片山彻 - 大赛璐化学工业株式会社
  • 2007-03-26 - 2007-10-03 - G03F7/42
  • 该光刻用清洗剂或冲洗剂的特征在于,含有可以具有取代基的乙酸环烷。还可以含有单丙二醇烷基醚、一缩丙二醇烷基醚、缩三丙二醇烷基醚、单丙二醇烷基醚乙酸、一缩丙二醇烷基醚乙酸缩三丙二醇烷基醚乙酸、1,3-丁烷基醚、1,3-丁烷基醚乙酸、甘油烷基醚和甘油烷基醚乙酸作为有机溶剂
  • 光刻洗剂
  • [发明专利]半导体光刻用共聚物、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法-CN201480048455.9有效
  • 安田敦;中条美帆 - 三菱化学株式会社
  • 2014-09-03 - 2019-08-30 - C08F220/28
  • 一种光刻用共聚物,其特征在于,其浊度Th(80)为1.0以上、4.6NTU以下,并且浊度Tm(80)为1.0以上、3.8NTU以下,该浊度Th(80)是这样的浊度,将在丙二醇单甲醚乙酸溶液中添加正庚烷时使浊度成为10NTU的正庚烷添加量设为(X)h,该丙二醇单甲醚乙酸溶液中,光刻用共聚物的含量相对于丙二醇单甲醚乙酸溶液的总质量为20wt%,该浊度Th(80)是将该(X)h的80%的量的正庚烷添加到该丙二醇单甲醚乙酸溶液中时的、该丙二醇单甲醚乙酸溶液的浊度;该浊度Tm是这样的浊度,将在丙二醇单甲醚乙酸溶液中添加甲醇时使浊度成为5.0NTU的甲醇添加量设为(X)m,该丙二醇单甲醚乙酸溶液中,该光刻用共聚物的含量相对于丙二醇单甲醚乙酸溶液的总质量为20wt%,该浊度Tm是将该(X)m的80%的量的甲醇添加到该丙二醇单甲醚乙酸溶液中时的、该丙二醇单甲醚乙酸溶液的浊度。
  • 半导体光刻共聚物抗蚀剂组合以及制造方法
  • [发明专利]型干洗溶剂组成物-CN99100508.2无效
  • 李金岩;廖盛焜 - 李金岩
  • 1999-02-02 - 2004-02-18 - C11D7/50
  • 本发明为一种醚型干洗溶剂组成物,包含丙二醇单甲基醚甲酸、或丙二醇单甲基醚乙酸、或丙二醇单甲基醚丙酸、或丙二醇单甲基醚丁酸,或丙二醇单乙基醚甲酸、或丙二醇单乙基醚乙酸、或丙二醇单乙基醚丙酸、或丙二醇单乙基醚丁酸,或以上八化合物的混合物,以及不高于总重量70%的四氯乙烯、或去渍油一型、或去渍油型、或以上三溶剂的混合物,其是用做衣物、布料等纺织品的干洗剂。
  • 醚酯型干洗溶剂组成
  • [发明专利]抗蚀剂组合物-CN200510055829.2有效
  • 松田洋和;堀口明;大谷浩司;高桥一史 - 大赛璐化学工业株式会社
  • 2005-03-15 - 2005-09-21 - G03F7/42
  • 所述抗蚀剂组合物包括抗蚀剂成分与有机溶剂,所述有机溶剂是从(a1)烷基碳原子数为2或2以上的一丙二醇烷基醚、(a2)或三丙二醇烷基醚、(a3)一、或三丙二醇芳基醚、(a4)1,3-丁或甘油的烷基醚、(b1)烷基碳原子数为3或3以上的乙酸丙二醇烷基醚、(b2)乙酸或三丙二醇烷基醚、(b3)乙酸一、或三丙二醇芳基醚、(b4)乙酸1,3-丁或甘油的烷基醚以及(b5)乙酸C3-4链烷多中选出的至少1种。
  • 抗蚀剂组合

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